1967年，日本的中村正利用低能电子发光原理改进了ZnO:Zn发光材料的制造和涂覆工艺，选择了新的电极结构，获得了20V低阳极加速电压条件下的一种封在圆柱管内七段单位显示的真空荧光显示屏（Vacuum Fluorescent Display，VFD）。之后，VFD先后在形状上从真空圆柱管向平板管发展，在阳极基板上由厚膜制作技术向薄膜光刻技术发展。目前，主要研究高发光效率、长寿命的彩色荧光粉材料，以及驱动IC内置化、系统化等技术。
